Ao contrário do cerâmico, o sensor Thin Film usa uma película de platina aplicada sobre um substrato de cerâmica de alta pureza por meio do sistema de pulverização catódica.

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A pulverização catódica é um processo pelo qual partículas de um material alvo sólido são ejetadas quando ele é bombardeado por partículas de alta energia, especialmente, em laboratório, íons de gás. Isso só acontece quando a energia cinética das partículas que chegam é muito maior do que as energias térmicas convencionais.

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Este processo pode levar, durante o bombardeio prolongado de íon ou plasma de um material, à erosão significativa dos materiais. É comumente utilizado para deposição de Thin Films.

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Essa camada de platina é então estruturada por meio de um sistema de fotolitografia e obtém a forma final de um meandro. O valor final da resistência é obtido por meio de um sistema de laser.

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A faixa típica de uso dos elementos sensores do tipo Thin Film varia entre -70 ºC e +600 ºC.

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Devido ao seu tamanho reduzido e, consequentemente, pouca massa, os sensores de Thin Film apresentam uma resposta rápida às variações de temperatura.